ITO导电玻璃是一种常用的透明导电材料，常用于制备电子器件、触摸屏、太阳能电池等。在ITO导电玻璃的制备过程中，常常需要将胶水或胶带等杂质从ITO导电玻璃表面去除，以免影响其性能。此时，金徕等离子去胶是一种常用的方法。等离子去胶是指利用等离子体对ITO导电玻璃表面进行清洗的方法。等离子去胶的主要原理是：利用等离子体的强氧化性和高能离子轰击作用，将ITO导电玻璃表面的杂质、胶水、胶带清除，获得干净的表面，从而提高其附着力，提高其透明度、改善其光学性能、提高稳定性和耐久性等。
硅片等离子去胶技术是利用等离子体对硅片表面的胶层进行加工的技术。等离子体中的离子和原子具有很高的能量，可以使硅片表面的胶层发生化学反应，从而实现去胶作用。硅片等离子去胶技术是去除硅片表面胶层的一种有效方法。胶层是在芯片制造过程中为了保护芯片而加在硅片表面的一层保护膜。在芯片加工完成后，需要去除胶层才能得到裸片。硅片等离子去胶技术可以高效地去除胶层，从而得到裸片。
陶瓷等离子表面改性的原理是利用等离子体对陶瓷表面进行处理。等离子体是一种高能量的物质状态，其通过高能电子、离子和激发态分子的作用，能够对材料表面的化学键进行断裂和重组，从而改变其表面化学结构和物理性质。陶瓷等离子表面改性技术利用等离子体对陶瓷表面进行处理，从而实现对其表面化学结构和物理性质的调控。
芯片等离子活化技术是一种物理处理技术，通过改变材料表面的化学性质、物理性质和机械性能，实现对材料的表面处理和改性。芯片等离子活化技术具有处理效率高、处理精度高、无需添加剂、处理后材料性能稳定和应用范围广泛等优势。
等离子表面处理工艺特点：1.喷射出的等离子体流为中性，不带电 ，可以对各种高分子、金属、 橡胶、PCB电路板等材料进行表面处理；2.提高塑料件粘接强度，例如PP材料处理后可提升数倍，大部分 塑料件处理后可使表面能量达到60达因以上；3.等离子体处理后表面性能持久稳定，保持时间长；4.干式方法处理无污染，无废水，符合环保要求；5.可以在生产线上在线运行处理，无须低压真空环境,降低成本；JL型等离子清
